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Tergeo等離子清洗機(jī)是在真空的腔體里，通過射頻(RF)電源在一定的壓力情況下產(chǎn)生高能量的無序等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，以達(dá)到清洗目的的一種設(shè)備。其工作原理主要基于等離子體的物理和化學(xué)特性，具體過程如下：1.等離子體的產(chǎn)生...

微波去膠機(jī)主要利用微波能量激發(fā)等離子體，使氣體分子電離產(chǎn)生大量高能活性粒子。這些活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠分解為揮發(fā)性物質(zhì)，從而達(dá)到去除光刻膠的目的。例如，在氧氣環(huán)境中，微波激發(fā)產(chǎn)生的氧離子等活性粒子能與光刻膠中的有機(jī)成分反應(yīng)，...

PIETergeo-pro等離子清洗機(jī)成功安裝案例：助力山東高等研究院科研升級(jí)近日，我公司銷售的美國PIE公司的Tergeo-pro等離子清洗機(jī)在山東高等研究院完成了成功安裝與調(diào)試，標(biāo)志著雙方在科研設(shè)備領(lǐng)域的合作邁出了堅(jiān)實(shí)一步。此次設(shè)備的順...

旋涂顯影系統(tǒng)是半導(dǎo)體制造、微電子加工以及光學(xué)器件制備等領(lǐng)域中至關(guān)重要的工藝設(shè)備之一。它主要通過高速旋轉(zhuǎn)的方式，將液態(tài)的光刻膠均勻地涂覆在硅片等基底表面，隨后經(jīng)過顯影等后續(xù)處理，形成所需的圖案，為后續(xù)的蝕刻、摻雜等工藝步驟奠定基礎(chǔ)。旋涂顯影系...

薄膜沉積系統(tǒng)的核心功能模塊通常包括真空腔體、氣源供應(yīng)系統(tǒng)、能量輸入裝置及過程控制系統(tǒng)。真空腔體作為反應(yīng)環(huán)境載體，需維持特定壓力范圍以調(diào)控氣相分子的平均自由程，從而優(yōu)化薄膜生長動(dòng)力學(xué)。氣源供應(yīng)系統(tǒng)通過精確配比不同氣體組分，實(shí)現(xiàn)薄膜化學(xué)成分的靈...

等離子刻蝕ICP技術(shù)以其高精度、高效率和高選擇性在微納加工領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。通過了解其原理、應(yīng)用及設(shè)備選擇和操作方法，可以更好地利用這一技術(shù)進(jìn)行微電子器件、生物芯片和納米結(jié)構(gòu)的制備。等離子刻蝕ICP設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)方法涉及多個(gè)方面：1.儀...

在納米科技和半導(dǎo)體工業(yè)的浪潮中，勻膠旋涂儀以其特殊的魅力，成為了材料制備和薄膜沉積過程中不可少的工具。這種設(shè)備通過高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將液體均勻地鋪展在基片表面，形成一層厚度可控、均勻性好的薄膜。這一過程不僅體現(xiàn)了物理學(xué)中離心力的巧妙應(yīng)...

在半導(dǎo)體制造的精細(xì)工藝中，刻蝕、顯影與清洗是三個(gè)至關(guān)重要的步驟。它們共同構(gòu)成了芯片生產(chǎn)中不可少的一環(huán)，確保了電路圖案的準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移和芯片性能的穩(wěn)定。刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是利用化學(xué)或物理方法去除材料表面特定區(qū)域的過程，它是半導(dǎo)體器件制造中形成微小結(jié)構(gòu)...

熱重分析質(zhì)譜儀(TG-MS)是一種結(jié)合了熱重分析(TG)和質(zhì)譜分析(MS)的分析技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)工程以及環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域。1.熱重分析(TG)：熱重分析是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質(zhì)量與溫度變化關(guān)系的一種熱分析技術(shù)。通過記...

等離子清洗機(jī)主要由真空系統(tǒng)、氣體供應(yīng)系統(tǒng)、射頻發(fā)生器、控制系統(tǒng)等部分組成。工作原理是：首先將待處理的材料放入真空室中，通過真空泵將真空室內(nèi)的氣壓降低到一定程度；然后向真空室內(nèi)通入惰性氣體(如氬氣、氮?dú)獾?，在射頻電場的作用下，氣體分子被激發(fā)...