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PDC-002等離子清洗機(jī)包含PAC、PPC、HPC和SCE，可以滿足實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)的應(yīng)用、從低溫處理到帶冷卻處理的應(yīng)用、從鋁質(zhì)腔體到石英腔體的應(yīng)用、從簡單緊湊的設(shè)備到可以通過軟件進(jìn)行延展的應(yīng)用，等等。該等離子清洗機(jī)，作為蝕刻系統(tǒng)，主要用在工...

等離子清洗機(jī)真空泵原理是兩個電極之間形成高頻交變電場，用真空泵在裝置的密閉容器中實(shí)現(xiàn)一定的真空度隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也越來越長，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體。在真空和瞬時高溫狀態(tài)下，活性等離子...

Harrick等離子清洗機(jī)為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式，可以有效去除表面污染物，避免靜電損傷。在集成電路的制程中，會產(chǎn)生許多種類的污染物，包括氟化樹脂、氧化物、環(huán)氧樹脂、焊料、光刻蝕劑等，這些污染物將嚴(yán)重影響集成電路及其元器件的可靠...

高功率等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清...

微波等離子去膠機(jī)是一個典型的勻膠過程，其中包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥（溶劑揮發(fā)）幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)...

在平板顯示產(chǎn)品的制程中，隨著工藝層數(shù)的增加和產(chǎn)品精度的提高，光刻制程相比過去顯得越發(fā)重要。在光刻制程的過程中，顯影單元作為刻蝕設(shè)備的主要單元之一，將曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域進(jìn)行溶解，以保留另外區(qū)域，從而將圖案顯現(xiàn)出來。顯影單元在顯影制程中需循環(huán)...

等離子清洗機(jī)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清...

等離子清洗機(jī)在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發(fā)的等離子與物體表面產(chǎn)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。其中，物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空...

霍爾效應(yīng)測試儀介紹：基本原理：利用霍爾效應(yīng)可以測量半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電特性，從而獲得載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類型等重要參數(shù)。當(dāng)電流垂直于外磁場通過導(dǎo)體時，載流子發(fā)生偏轉(zhuǎn)，垂直于電流和磁場的方向會產(chǎn)生一附加電場，從而在導(dǎo)體的兩端...

快速退火爐可選擇單設(shè)定點(diǎn)或30段可編程控制快速退火爐器。節(jié)能型的陶瓷纖維材料和雙層結(jié)構(gòu)，可將外表溫度降到常溫。均溫區(qū)長，操作簡便，密封可靠，綜合性能指標(biāo)較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。其的主要特點(diǎn)有：可在真空/不同氣氛/...