薄膜反射儀根據(jù)其測量方式的不同，可分為：接觸式薄膜測厚儀，非接觸式薄膜測厚儀。非接觸式薄膜測厚儀的出現(xiàn)，大大提高了紙張等片材厚度測量的精度，尤其是在自動化生產(chǎn)線上，得到廣泛應(yīng)用。
　　薄膜反射儀界面友好，操作簡便，用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強大，可同時測量多達四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫中包含了大量常規(guī)的材料的光學常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴充材料數(shù)據(jù)庫。
　　薄膜反射儀主要功能及應(yīng)用范圍：
　　1. 有機、無機光電材料的結(jié)構(gòu)和性能研究
　　2. 多晶薄膜物相鑒定、取向分析、晶粒大小測定、薄層次序分析
　　3. 薄膜厚度、表面及界面粗糙度、密度
　　薄膜反射儀功能特點：
　　1.測量和數(shù)據(jù)分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
　　2.包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
　　3.體積較小，方便擺放和操作
　　4.可測量薄膜厚度，材料光學常數(shù)和表面粗糙度
　　5.若需要單獨使用時，請向我司銷售代表說明；
　　薄膜反射儀可快速地測量透明或半透明薄膜的厚度，其測量膜厚范圍為15nm-50um，儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率，并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。薄膜反射儀是一款價格適中、功能強大的膜厚測量儀器，近幾年，每年的銷售量都超過200臺。根據(jù)型號不同，測量范圍可以從10nm到250um，它至高可以同時測量4個膜層中的3個膜層厚度（其中一層為基底材料）。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測量、測氧化物、SiNx、感光保護膜和半導體膜。也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。