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簡要描述:KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀通過實時監(jiān)控沉積過程,提供高精度、快速且非侵入式的測量解決方案,適用于多種半導(dǎo)體和電介質(zhì)材料。其主要特點包括提高生產(chǎn)力、低成本、高精度及易用性。該系列產(chǎn)品覆蓋不同厚度和波長范圍,滿足多樣化測量需求。
產(chǎn)品型號:
所屬分類:薄膜厚度測量儀
更新時間:2025-03-10
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性。
KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。
極大地提高生產(chǎn)力
低成本 —幾個月就能收回成本
A精確 — 測量精度高于 ±1%
快速 — 幾秒鐘完成測量
非侵入式 — 在沉積室以外進(jìn)行測試
易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)
型號 | 厚度范圍 | 波長范圍 |
F30 | 15nm-70μm | 380-1050nm |
F30-EXR | 15nm-250μm | 380-1700nm |
F30-NIR | 100nm-250μm | 950-1700nm |
F30-UV | 3nm-40μm | 190-1100nm |
F30-UVX | 3nm-250μm | 190-1700nm |
F30-XT | 0.2μm-450μm | 1440-1690nm |