Model 200 紫外掩膜曝光機

簡要描述：Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造
OAI 系統能夠處理各種常規形狀和不規則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內可提供均勻的紫外線曝光。

產品型號：

所屬分類：Model 200 紫外掩膜曝光機

更新時間：2025-07-04

廠商性質：生產廠家

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詳情介紹

Model 200 紫外掩膜曝光機

Model 200 紫外掩膜曝光機

OAI 200 型掩模對準器和紫外曝光系統是一款高性價比的高性能工具，其采用了行業模塊化組件，這使得 OAI 在微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體設備行業處于優勢地位。200 型是一款臺式設備，所需潔凈室空間極小。它為研發、中試或小批量生產提供了經濟實惠的選擇。該系統采用創新的氣浮 / 真空吸盤調平系統，能快速、輕柔地對基板進行調平，確保在接觸曝光過程中，光刻掩模與晶圓平行對準且全面均勻接觸。該系統可實現微米級分辨率和對準精度。對準模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤，無需工具重新配置，即可使用多種基板和掩模。對準模塊集成了用于 X、Y 和 θ 軸的千分尺。200 型對準器可配備多種對準光學器件，包括背面紅外（IR）對準器件。紅外照明真空吸盤可配置用于整片晶圓或晶圓碎片的對準。OAI 200 型可配置 OAI 納米壓印模塊，使其成為市面上低成本的納米壓印（NIL）工具。OAI 還提供一種模塊，專為使用液態光聚合物快速原型制作或生產微流控器件而設計。

200 型配備了可靠的 OAI 光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外或深紫外的準直紫外光。雙傳感器光學反饋回路與恒定強度控制器相連，將曝光強度控制在所需強度的 ±2% 以內。紫外波長的更換快速便捷。200 型是適用于任何入門級掩模對準和紫外曝光應用的高靈活性、經濟型解決方案。

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應用領域

微機電系統（MEMS）
納米壓印（NIL）
微流控技術
納米技術
II-VI 及 III-V 族器件制造
多層光刻膠處理
液晶顯示器（LCD）和場發射顯示器（FED）
多芯片模塊（MCM’s）
薄膜器件
太陽能電池
聲表面波器件（SAW devices）

選項

可配備單攝像頭和單屏幕，或雙攝像頭和雙屏幕（照片中顯示的是雙攝像頭/雙屏幕版本）可加裝用于納米壓印（NIL）的納米壓印模塊可加裝用于微流控技術的模塊

特點

占地面積小

真空吸盤

精密對準模塊

可互換的掩模支架和基板吸盤

優勢

所需潔凈室空間極小對易碎基板材料的損傷極小對準精度可達1微米可輕松適配多種基板和掩模紅外透明晶圓的背面掩模對準精度可達3-5微米紫外光具有高準直性和均勻性可快速更換紫外光波長曝光強度控制在±2%以內可配置為用于納米壓印（NIL）的納米壓印工具可配置微流控模塊

Model 200 紫外掩膜曝光機