發(fā)布時(shí)間： 2017-08-17 點(diǎn)擊次數(shù)： 1627次
微波等離子去膠機(jī)概述：Q系列等離子清洗機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。
微波等離子去膠機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1.去膠快速*
2.對(duì)樣片無(wú)損傷
3.操作簡(jiǎn)單安全
4.設(shè)計(jì)緊湊美觀
5.產(chǎn)品性價(jià)比高
微波等離子去膠機(jī)產(chǎn)品用途：
1.高劑量離子注入光刻膠的去除
2.濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
3.MEMS中犧牲層的去除
4.去除化學(xué)殘余物
5.清除浮渣工藝
微波等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)及從事微納加工工藝研究的必要設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體加工工藝及其它薄膜加工工藝過(guò)程中，各類光刻膠的干法去除、基片清洗和電子元件的開(kāi)封等。微波等離子去膠機(jī)主要應(yīng)用：等離子體表面改性、有機(jī)物表面等離子體清潔、等離子體刻蝕應(yīng)用、 等離子體灰化應(yīng)用、增強(qiáng)或減弱浸潤(rùn)性等。
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